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含氟廢水是半導(dǎo)體制造業(yè)產(chǎn)生的主要污染廢水。工藝中含氟廢水主要來自芯片制造過程中的濕法腐蝕等工序，環(huán)瑞生態(tài)——半導(dǎo)體廢水深度除氟核心技術(shù)產(chǎn)品，助力出水低成本穩(wěn)定達(dá)標(biāo)＜1mg/L，污泥減少30-50%，節(jié)省用量30-50%。
1.半導(dǎo)體含氟廢水來源：
半導(dǎo)體行業(yè)含氟廢水來源于清洗、光阻涂布、曝光、顯影、離子植入、光阻去除、濺鍍、化學(xué)氣相沉積等。半導(dǎo)體廢水含氟量普遍是超標(biāo)的，分為高濃度含氟廢水和低濃度含氟廢水，一般高濃度的含氟廢水出水濃度可達(dá)1000 mg/L—1200 mg/L。
2.環(huán)瑞除氟劑深度除氟劑原理
環(huán)瑞半導(dǎo)體深度除氟劑為改性鋁鐵硅聚合物，其主要機理如下：
3.環(huán)瑞半導(dǎo)體廢水深度除氟劑客戶案例
原水氟含量：988mg/L
處理水量： 180m3
排放標(biāo)準(zhǔn)： ＜6mg/L
京東方科技集團某分公司，每天廢水量在180m3左右，經(jīng)我司大量小試實驗對工藝不斷優(yōu)化，確定采用我司半導(dǎo)體廢水深度除氟劑GMS-F6進(jìn)行深度處理，噸水投加量0.6kg/噸，污泥量減少50%，大大縮減投資成本，且出水氟化物濃度穩(wěn)定5-6 mg/L。
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